"Вы хотите сказать, что собираетесь тратить деньги на то, что мы даже не знаем, будет ли это работать?" скептически спросил Гроув. "Да, Энди, это называется исследованиями", - ответил Каррутерс. Гроув обратился к Гордону Муру, бывшему генеральному директору Intel, который остался советником компании. "Что бы вы сделали, Гордон?" "Ну, Энди, какие у тебя еще есть варианты?" - спросил Мур. спросил Мур. Ответ был очевиден: никаких. Индустрия микросхем либо научится использовать все меньшие длины волн для литографии, либо уменьшение размеров транзисторов и закон, названный в честь Мура, прекратятся. Такой исход был бы разрушительным для бизнеса Intel и унизительным для Гроува. Он выделил Каррутерсу 200 млн. долл. на разработку EUV-литографии. В итоге Intel потратит миллиарды долларов на НИОКР и еще миллиарды на обучение использованию EUV для изготовления микросхем. Компания никогда не планировала создавать собственное оборудование для EUV-литографии, но ей было необходимо гарантировать, что хотя бы одна из передовых литографических фирм выведет EUV-машины на рынок, чтобы у Intel были инструменты, необходимые для создания все более мелких микросхем.
В 1990-е годы будущее литографии было под вопросом, как никогда с тех пор, как Джей Лэтроп перевернул свой микроскоп в военной лаборатории США. Над литографической отраслью нависли три экзистенциальных вопроса: инженерный, бизнес и геополитика. На заре создания микросхем транзисторы были настолько велики, что размер световых волн, используемых литографическими инструментами, почти не имел значения. Но закон Мура привел к тому, что размер световых волн - пара сотен нанометров в зависимости от цвета - стал влиять на точность вытравливания микросхем. К 1990-м годам размеры наиболее совершенных транзисторов измерялись сотнями нанометров (миллиардными долями метра), но уже можно было представить себе транзисторы гораздо меньшего размера с элементами длиной всего в десятки нанометров.
По мнению большинства исследователей, для производства микросхем в таких масштабах необходимы более точные инструменты литографии, позволяющие воздействовать светом на химические вещества фоторезиста и вырезать формы на кремнии. Некоторые исследователи пытались использовать пучки электронов для вырезания чипов, но электронно-лучевая литография никогда не была достаточно быстрой для массового производства. Другие делали ставку на рентгеновские лучи или ультрафиолетовое излучение, каждое из которых реагировало с различными наборами химикатов фоторезиста. На ежегодной международной конференции специалистов по литографии ученые спорили о том, какая из технологий победит. Это было время "литографических войн", как выразился один из участников, между конкурирующими группами инженеров.
Война" за поиск следующего, лучшего типа луча для стрельбы по кремниевым пластинам была лишь одним из трех состязаний, ведущихся за будущее литографии. Вторая битва - коммерческая: кто из компаний будет создавать следующее поколение литографических инструментов. Огромные затраты на разработку нового литографического оборудования подталкивали отрасль к концентрации. Одна или максимум две компании будут доминировать на рынке. В США компания GCA была ликвидирована, а Silicon Valley Group, литографическая фирма, происходящая от Perkin Elmer, значительно отставала от лидеров рынка - Canon и Nikon. Американские производители микросхем справились с японским вызовом 1980-х годов, а вот американские производители литографических инструментов - нет.
Единственным реальным конкурентом Canon и Nikon была небольшая, но растущая голландская компания ASML, занимающаяся литографией. В 1984 г. голландская компания Philips, производящая электронику, выделила свое внутреннее подразделение по литографии, создав ASML. Выделение компании совпало с обвалом цен на микросхемы, в результате чего бизнес GCA оказался под угрозой срыва. Более того, город Велдховен, расположенный недалеко от границы Нидерландов с Бельгией, казался маловероятным местом для создания компании мирового класса в полупроводниковой промышленности. Европа была крупным производителем микросхем, но явно отставала от Кремниевой долины и Японии.